迪盛微电子(图)-HDI-舟山直接成像

在印制电路板工业中，激光直接成像系统引起了顺序的结构、后备资源和数据存储设备的根本性变化。激光直接成像系统取代了印制电路板制造业中所有的曝光系统，通常传统的胶片曝光系统和光绘仪所完成的任务也可由激光直接成像系统代替。控制机器完成必需任务的软件很容易设计，且所有的CAD 系统使用相同的列表工作，每一个印制电路板都有同样的材料规范。将来，HDI，激光直接成像系统的使用可能会完全减少电子装配的时间，这既是非常好的又是非常可行的解决方案。

晒版机（曝光机）的工作原理及操作步骤

晒版机是用于制作印版的一种接触曝光成像设备。

（1）晒版机的工作玻璃表面温升应不大于20℃。检测方法：将曝光光源置于正常工作位置，舟山直接成像，用分度值不小于0.5℃的点温度计测量工作玻璃表面温度。以光源开启6分钟关闭3分钟为一周期，循环工作10次与晒版机工作之前室温下的工作玻璃表面温度相比较，计算玻璃表面温升。

LDI机

LDI曝光速度的瓶颈因素包括：数据的储存与传送、镭射能量、切换速度、多边型的制作速度、光阻的感光度、镭射头移动速度、电路板传送作业模式等。

以基本的影响因素而言，友迪激光科技，有三个独立的因子会影响曝光速率：

1、能量密度   2、数据调变的速度   3、机械机构速度

光阻必须要有一定量的能量送到表面才能产生适当的曝光，而高敏度的光阻需要的能量相对较低。因为总能量等于功率乘上时间，直接成像印刷机，高敏度的感光膜在同样的功率下所需的曝光时间就比较短。而曝光系统的功能输出，主要来自于系统的光源设计，所以这是能量与时间的关系与解析度无关。