






单工位喷淋清洗机
属于清洗设备技术领域,为解决现有的喷淋清洗机工作效率低的问题而设计。本实用新型提供的单工位喷淋清洗机包括底座、位于所述底座上方的上料箱、设于所述上料箱一侧的喷淋清洗装置和储液槽、用于夹紧待清洗的罐体的机械手、用于驱动所述机械手的驱动装置以及控制系统,其中,所述储液槽内设有撇油机构,手动单工位旋转喷淋清洗机定制,顶部安装有重力油水分离装置,侧壁可活动的连接有集油盒。本实用新型的单工位喷淋清洗机工作、操作和维修方便。
此方法适用于除去氧化膜或有机物。因为化学物质在硅片表面停留的时间比较短,手动单工位旋转喷淋清洗机定制,对反应需要一定时间的清洗效果不好。在喷洗过程中所使用的化学试剂很少,全自动单工位旋转喷淋清洗机定制,对控制成本及环境保护有利。
随着集成电路制程工艺节点越来越,对实际制造的几个环节也提出了新要求,蓬莱单工位旋转喷淋清洗机定制,清洗环节的重要性日益凸显。
清洗的关键性则是由于随着特征尺寸的不断缩小,半导体对杂质含量越来越敏感,而半导体制造中不可避免会引入一些颗粒、有机物、金属和氧化物等污染物。为了减少杂质对芯片良率的影响,实际生产中不仅仅需要提高单次的清洗效率,还需要在几乎所有制程前后都频繁的进行清洗,清洗步骤约占整体步骤的33%。


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