<p><br /></p><p><p><p><br /></p><p>四氟化碳的密度比较高，可以填满地面空间范围，在不通风的地方会导致窒息。四氟化碳成品应存放在阴凉，四氟化碳公司，干燥，通风的库房内，严禁曝晒，远离热源。四氟化碳是可作为氟和自由基氟化碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四氟化碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳是目前微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体，四氟化碳，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。</p></p></p><p><br /><div style='text-align:center;'><br/><img src='https://img301.dns4.cn/pic/252145/p8/20181115152039_4762_zs_sy.jpg' /></div><div style='text-align:center;'><br/><img src='https://img301.dns4.cn/pic/252145/p8/20181030180701_1361_zs_sy.jpg' /></div></p><p><br /></p><div id='div_zsDIV'></div> <br /><p>对于硅和二氧化硅体系，采用CF4-O2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，四氟化碳厂家，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。四氟化碳的热稳定性更好。化合物的热稳定性主要与化学键的键能及键长有关。零下198 °C时，四氟化碳具有单斜的结构，晶格常数为a = 8.597， b= 4.433， c = 8.381 (.10-1 nm)， β = 118.73° 。四氟化碳是可作为氟和自由基氟化碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四氟化碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。</p><p><br /><div style='text-align:center;'><br/><img src='https://img301.dns4.cn/pic/252145/p8/20181115152039_8502_zs_sy.jpg' /></div><div style='text-align:center;'><br/><img src='https://img301.dns4.cn/pic/252145/p8/20181030180701_1361_zs_sy.jpg' /></div></p><br /><p style='text-indent:25px;font-size:14px;'>电子四氟化碳是目前半导体行业主要的等离子体蚀刻气体之一，在硅、二氧化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻，以及低温制冷、电子器件表面清洗等方面被广泛应用。而电子特气系统为它保驾护航，保证四氟化碳（CF4）的纯度和安全稳定使用。在填有氢氧化铬的高温镍管中进行，高纯四氟化碳，反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体，再通过冷冻，用硅胶除去气体中的水分，经精馏而得成品。由碳与氟反应，或与氟反应，或碳化硅与氟反应，或氟石与石油焦在电炉里反应，都能生成四氟化碳。</p><p style='text-align:center;'><img src='https://img301.dns4.cn/pic/252145/p8/20181115152039_4762_zs_sy.jpg' align='center' /></p> <br /> 四氟化碳-安徽谱纯|货源充足-高纯四氟化碳由安徽谱纯气体科技有限公司提供。安徽谱纯气体科技有限公司拥有很好的服务与产品，不断地受到新老用户及业内人士的肯定和信任。我们公司是商盟认证会员，点击页面的商盟客服图标，可以直接与我们客服人员对话，愿我们今后的合作愉快！
