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真空镀铝膜装在真空蒸镀机中，用真空泵抽真空，使镀膜中的真空度达到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加热坩锅使高纯度的铝丝在1200℃～1400℃的温度下溶化并蒸发成气态铝。气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、经冷却还原即形成一层连续而光亮的金属铝层。通过控制金属铝的蒸发速度、薄膜基材的移动速度以及镀膜室的真空度等来控制镀铝层的厚度，一般镀铝层厚度在25～500nm，镀铝薄膜的宽度为800mm～2000mm。
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真空镀铝膜的生产工艺流程
真空镀铝膜的生产工艺流程为：基材放卷→抽真空→加热蒸发舟→送铝丝→蒸镀→冷却→测厚→展平→收卷；其真空镀铝方式有转移法和直接蒸镀法两种。
（1） 转移法是借助载体膜将金属铝层转移到基材表面而形成真空镀铝膜的一种工艺。转移法是在直接蒸镀法基础上发展起来的新工艺，pet金膜定做加工，它克服了直接蒸镀法对基材要求的局限性，尤其适合于在各种纸及纸板上进行镀铝，也可用于塑料薄膜的镀铝。
（2）直接蒸镀法是被镀基材直接通过真空镀膜机，将金属铝蒸镀在基材表面而形成真空镀铝膜的一种工艺。直接蒸镀法对基材的要求较高，尤其是表面要形成光亮的金属膜时，需要求基材具有较好的表面平滑度。如果纸张的表面较粗糙，则采用直接蒸镀法时，需要在镀铝前进行表面涂布。另，在蒸镀过程中要求基材的挥发物要少。直接蒸镀法主要适用于蒸镀塑料薄膜，也可用于纸张的蒸镀，但纸张的质量要求高，并对纸的定量有一定的限度；也就是说直接蒸镀法对基材的适用范围有较大的局限性。真空镀铝对被镀基材的要求：
（1）基材表面清洁光滑、平整、厚度均匀，即基材应具有一定的强度和表面平滑度；挺度和摩擦系数适当。
（2） 耐热性好，基材经得起蒸发源的热辐射和蒸发物的冷凝潜热，基材含水量低于0.1%。。
（3）薄膜基材产生的挥发性物质要少；表面润湿张力大于38dyn/cm。
（4）对镀铝层的粘接性良好；对于非极性材料，真空镀铝前应进行表面处理、以提高与镀层的粘接性。
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