半导体工艺中的刻蚀剂。
将氟化氢铵与其他化学物质混合后形成刻蚀剂，易制爆危险化学品，涂抹在硅片表面，通过化学反应将硅片表面的氧化层和多晶硅表面刻蚀，得到所需要的形状和结构。
生产氟化物化合物。
将氟化氢铵逐渐加入其它物质中，通过反应得到所需要的化合物。需要注意的是，处理过程中必须严格控制反应温度和反应时间，以免出现反应异常。
化工行业氟化物生产：作为原料用于合成氟化盐（如氟化铵、氟化氢等）、含氟精细化学品，以及半导体制造所需的高纯度氟化物23。电子级氟化氢铵：高纯产品用于半导体工业，如蚀刻硅片表面氧化层、清洗元器件，或作为化学气相沉积（CVD）的氟源35。玻璃蚀刻剂：与氢氟酸配合使用，铜陵化学品，用于磨砂玻璃、光学玻璃的蚀刻加工，提升玻璃表面处理效率13。2. 金属加工与表面处理金属腐蚀剂：用于去除金属（如镍、铬、不锈钢）表面的氧化层、锈蚀物，或钝化金属表面形成保护层45。高纯度金属制备：通过氟化氢铵与金属形成配合物，调节金属离子状态，用于提纯钛、铍等高纯度金属
制备方法中和法：在铅或塑料制的容器中，定量通入无水氢氟酸，与循环母液混合，在容器夹套中用冷水冷却，然后缓慢地、间歇地以细流通入液氨并不断搅拌，使之充分反应。操作中随时用刚果红试剂测定，至试剂刚呈棕色为终点时，停止通入液氨。将反应液蒸发浓缩至液面呈现结晶膜为止，然后冷却结晶，离心分离，制得氟化氢铵成品，其反应方程式为NH?+2HF→NH?HF?12。复分解法：在搅拌下慢慢将氢氟酸加到氟化铵中，有毒化学品，待溶液pH=1时停止加酸，用冰水冷却结晶，结晶离心甩干，易制爆化学品，干燥后得到成品。采用高纯NH?F和HF可制得高纯氟化氢铵12。气体反应法：将40%的氢氟酸盛于铂皿或铅皿中，通入氨气，当反应液使刚果红试纸开始变为棕色时停止通入。用水冷却，令NH?HF?析出，抽吸过滤
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