高纯氩气在半导体行业的应用
半导体行业对高纯氩气依赖程度极高。在半导体芯片制造过程中，许多环节都需要在高纯氩气环境下进行。例如，在化学气相沉积工艺里，氩气作为载气，携带反应气体准确到达硅片表面，保障沉积过程的正确性与稳定性。
离子注入工序中，氩气用于形成离子束，对硅片进行掺杂，准确控制半导体材料的电学性能。在晶体生长时，氩气营造惰性氛围，防止硅晶体被氧化，确保晶体质量。高纯氩气为半导体制造提供了洁净、稳定的环境，有力推动了芯片制造技术的进步，保障了半导体产品的性能高与高可靠性。
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高纯氩气怎样提纯？
高纯氩气的提纯方法主要有低温精馏法和吸附法。低温精馏法是利用氩气与其他气体沸点的差异，在低温下将空气进行多次精馏，使氩气得到分离和提纯。吸附法则是采用特定的吸附剂，如分子筛等，选择性地吸附氩气中的杂质，如氧气、氮气、二氧化碳和水分等，从而获得高纯氩气。
此外，还可以结合多种方法，如先通过低温精馏进行粗分离，再用吸附法进一步提纯，以达到更高的纯度要求。
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高纯氩气的制备方法
高纯氩气的制备方法主要包括深冷分馏法、合金吸气法和催化脱氧分子筛脱水结合合金吸气法。
深冷分馏法通过多级冷却和分离技术，从空气中提取高纯氩气，适用于大规模生产。
合金吸气法利用吸气剂吸收杂质，适用于高纯度要求的深度净化。
催化脱氧分子筛脱水结合合金吸气法则需要进行初级净化，再用吸气剂深度净化，适用于不同纯度等级的氩气制备。
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