镀镍是电镀技术中研究得多和充分的镀种，这主要是镀镍的特殊性能所决定的。镀镍也是对添加剂和光亮剂依存度的镀种，化学镍加工厂，这是镀镍受到研究者重视的主要原因。
一般多层镍体系各镀层的厚度是暗镍30微米，亮镍10微米，镀铬层0.25微米。
我们的多镀层镍的指标可以达到：
外观：光亮有光泽，节瘤，划痕等；
结合力：锯破坏性测试；
镀层厚度，电位差，
盐雾试验：66小时无腐蚀，88小时无起泡、无裂痕、无铬损失、腐蚀点不大于1.5mm。
化学镍加工
电镀暗镍又称普通镀镍或无光泽镀镍，是基本的镀镍工艺。该工艺镀层结晶细致，易于抛光、韧性好、耐蚀性高，汕尾化学镍加工，主要用于防护一装饰性镀层的底层或中间层。按其使用目的，暗镍分为预镀镍和常规镀镍。
化学镀镍层表面是极为均匀的，只要镀液可以浸泡得到镍层表面，电镀过程中溶质交换充分，镀层就会非常均匀，几乎可以达到仿形的效果。
电镀无法对一些形状复杂的产品素材进行全表面施镀，但化学镀可以对任何形状工件施镀。
硼酸在电镀镍中的作用：现代光亮快速镀镍中则提倡硼酸含量在40~50g/L范围内。之所以提倡硼酸含量宜高一些，是因为在镀镍液中的硼酸除一部分离解为H+和H2B03-外，另有一部分硼酸会转化为四硼酸，反应式为：4H3B03H2B407+5H20，四硼酸具有防止镍离子在阴极上形成氢氧化物或碱式盐的作用，环保化学镍加工，比硼酸的缓冲作用更好。化学镍加工
化学镀与电镀相比，所用的溶液稳定性较差，且溶液的维护、调整和再生都比较麻烦，材料成本费较高。
化学镀工艺在电子工业中有重要的地位。由于采用的还原剂种类不同，使化学镀所得的镀层性能有显著的差异，因此，在选定镀液配方时，要慎重考虑镀液的经济性及所得镀层的特性。
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