在半导体制造中，高纯氧气是生产芯片的关键气体之一，用于氧化硅片、清洗设备和作为载气。
高纯氧气的高纯度和稳定性确保了芯片制造过程中的高精度和低污染。例如，高纯氧气厂家，在氧化工艺中，高纯氧气与硅反应生成二氧化硅层，作为芯片的绝缘层；
在清洗过程中，高纯氧气用于去除表面杂质，提高芯片性能。由于半导体对气体纯度要求很高，高纯氧气需经过多次净化，高纯氧气生产厂家，去除微量杂质，以满足生产工艺需求。随着半导体行业的快速发展，高纯氧气的需求将持续增长。
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高纯氧气一般纯度能达到多少？
高纯氧气一般纯度在99.5%以上，根据应用需求可达到99.999%（5N级）甚至更高。不同领域对纯度要求不同，如yi疗领域呼吸支持需99.5%以上yi用氧，高压氧舱zhi疗纯度需≥99.9%；半导体制造中晶圆加工的氧化工艺，需6N级超高纯氧。
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高纯氧气在医学领域扮演着至关重要的角色，主要用于急救、手术和慢性呼吸系统疾病的救治。
在急救中，高纯氧气能够快速提高患者血氧饱和度，缓解缺氧症状，挽救生命；
在手术中，高纯氧气为患者提供稳定的氧气供应，确保手术安全进行；
在慢性呼吸系统疾病救治中，高纯氧气通过长期氧疗改善患者生活质量。
此外，高纯氧气还用于高压氧舱救治，促进伤口愈合和改善组织缺氧。
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