四氟化碳公司-四氟化碳-谱纯气体|资质齐全(查看)

由碳与氟反应，或一氧4化碳与氟反应，四氟化碳批发，或碳化硅与氟反应，或氟石与石油焦在电炉里反应，或二氟二氯甲4烷与氟4化氢反应，或四氯4化碳与氟化银反应，或四氯4化碳与氟化4氢反应，高纯四氟化碳，都能生成四氟化碳。在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。对于硅和二氧化硅体系，采用CF4-O2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。

四氟化碳亦称全氟化碳、四氟甲1烷、全氟化碳，为非腐蚀性气体，所有通用材料如钢、不锈钢、铜、青铜，铝等金属材料都可以使用。产品经除尘，碱洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏，通过控制精馏温度，除去O2、N2、H2，得到高纯CF4。由碳与氟反应，四氟化碳，或一氧1化碳与氟反应，或碳化硅与氟反应，或氟石与石油焦在电炉里反应，四氟化碳公司，或二氟二氯甲1烷与反应，或四氯1化碳与氟化银反应，或四氯1化碳与氟1化氢反应，都能生成四氟1化碳。

常温常压下稳定，避免强氧化剂、可燃物。不燃气体，遇高热后容器内压增大，有开裂、炸危险。化学性质稳定，不燃。常温下只有液氨-试剂能发生作用。四氟化碳贮存注意事项：气瓶使用和检验遵照《气瓶安全监察规程》的规定。气瓶内的气体不能全部用尽，应该留不小于0.04MPa剩余压力。随着手机、相机、太阳能电池等消费电子产品的需求量不断攀升，高纯度四氟化碳将成为四氟化碳行业的主要增长动力。