




等离子抛光机的是通过 “电场强化 + 等离子体化学反应” 实现表面整平,具体过程可分为 3 个关键阶段:
电解质活化:将纳米级抛光液(多为弱碱性或中性)溶于水,通入直流电后,抛光液在工件(阳极)与电极(阴极)之间形成稳定的 “电解液 - 蒸气 - 气体” 三层界面,其中蒸气层是反应载体。
等离子体生成:当电压达到临界值(通常 100-300V),工件表面微观凸起处的电场强度被强化(放电效应),蒸气层中的水分子、离子被激发为低温等离子体,具备强化学活性。
可控反应抛光:等离子体与工件表面发生 “氧化 - 侵蚀” 协同反应 —— 微观凸起处优先被氧化形成薄层氧化膜,随后氧化膜被抛光液快速侵蚀;而凹陷处反应速率较慢,终实现 “削峰填谷” 的整平效果,同时在表面形成均匀钝化膜,提升耐腐蚀性。
整个过程无机械接触,避免了传统机械抛光(如砂轮、布轮)导致的工件变形、划痕残留等问题。
等离子抛光去毛刺设备是一种利用等离子体对金属表面进行抛光和去毛刺处理的设备,在金属加工领域应用广泛。以下是关于它的详细介绍:
工作原理:等离子抛光去毛刺设备是通过抛光盐液体为抛光介质,可采用纯水或自来水做溶液,加温到一定温度后,让上好挂具的工件通电沉入抛光槽内,工件周围会产生大量电离子,即等离子。这些等离子与工件之间发生剧烈轰击形成尖l端放电和一系列的化学微腐蚀反应,在物理、化学双作用下快速达到抛光去毛刺的效果。
自动等离子抛光机
等离子抛光机对金属的适配性,本质取决于两个关键因素:
导电性:需材质具备一定导电性(电阻率<10?? Ω?m),绝缘金属(如某些金属陶瓷)无法适用;
化学稳定性:材质需能与等离子体 / 电解液发生 “可控的氧化 - 侵蚀反应”,过度活泼(如镁合金,易剧烈反应)或过度稳定(如钨、钼,反应速率过慢)的金属,需定制电解液与工艺参数。
等离子抛光机的材质适配范围以 “中高导电性、中等化学稳定性” 的金属为主,尤其在高精度、低损耗、复杂结构件(如盲孔、缝隙) 的抛光需求中,优势显著。
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