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东莞市八溢自动化设备有限公司

金牌会员4
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企业等级:金牌会员
经营模式:生产加工
所在地区:广东 东莞
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手机号码:15282129198
公司官网:www.dgbayi.com
企业地址:东莞市塘厦镇林村社区田心41号
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企业概况

东莞市八溢自动化设备有限公司成立于2017年6月,公司技术成员是等离子抛光去毛刺设备行业的创始人,拥有17年等离子抛光去毛刺设备的研发、设计、制造经验,本公司的主要产品有等离子抛光去毛刺设备、超声波清洗设备、真空镀膜设备、自动化改造升级,本公司主营等离子抛光去毛刺设备,标准机型号分别有100A300......

等离子电浆抛光机生产厂-等离子电浆抛光机-八溢细微处不放过

产品编号:100119843806                    更新时间:2025-09-13
价格: 来电议定
东莞市八溢自动化设备有限公司

东莞市八溢自动化设备有限公司

  • 主营业务:等离子抛光设备,等离子抛光机,等离子电浆抛光设备
  • 公司官网:www.dgbayi.com
  • 公司地址:东莞市塘厦镇林村社区田心41号

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视频作者:东莞市八溢自动化设备有限公司





等离子抛光机基于低温等离子体电解反应(利用电解液在高频电场下产生的等离子体层,对金属表面进行溶解、整平与活化),适用于大多数导电金属及其合金,尤其擅长解决精密件、复杂结构件(如盲孔、缝隙、异形曲面)的抛光难题,避免了机械抛光的死角和变形风险。其可抛光的金属类型需结合 “金属导电性、化学稳定性(抗电解液腐蚀)” 及 “抛光需求(如亮度、精度)。等离子电浆抛光机




等离子抛光机功能用途

等离子抛光机:精密制造的“光洁魔术师”
等离子抛光机(又称等离子电解抛光/等离子电化学抛光)是一种利用低温等离子体在电解液中作用于金属表面的抛光技术。它通过电场激发产生高活性等离子体,选择性地轰击金属表面微观凸起,环保等离子电浆抛光机,实现原子级的材料去除,成为精密制造领域提升表面质量的利器。
功能与优势:
1.光洁度:使命。可轻松将粗糙度(Ra)降至0.01微米以下,实现镜面般光泽,显著提升产品外观质感和光学反射性能(如饰品、反光杯)。
2.去毛刺:清除机械加工后残留的微米级毛刺、飞边,尤其擅长处理复杂内腔、细孔、深槽等传统方法难以触及的区域(如器械管腔、精密齿轮)。
3.提升洁净度:消除微观吸附物,等离子电浆抛光机供应商,降低表面张力,大幅减少污染附着,对要求超高清洁度的行业(如半导体、生物植入物)至关重要。
4.增强耐蚀性:形成均匀致密表面层,显著提高金属(尤其不锈钢、钛合金)的耐腐蚀、能力,延长关键部件寿命。
5.环保:相比传统机械或化学抛光,几乎无粉尘、无酸碱废液污染,能耗低,符合绿色制造趋势,且,尤其适合大批量小型精密件。
广泛应用领域:
*器械:手术器械、植入物(关节、螺钉)、器械、内窥镜部件,确保生物相容性、无菌性和平滑度。
*精密零部件:航空航天发动机叶片、液压阀块、传感器元件、精密齿轮、连接器,满足高可靠性和长寿命需求。
*3C电子:手机中框、摄像头金属环、手表表壳/表带、音响网罩,提升质感和耐磨性。
*汽车工业:燃油喷射系统零件、传感器、装饰亮条、发动机部件,优化性能和外观。
*流体设备:泵阀、管道系统(食品、制药),保证流道光滑,防止堵塞和细菌滋生。
*消费品:珠宝首饰、眼镜架、餐具、高尔夫球头,等离子电浆抛光机生产厂,赋予奢华光泽和舒适触感。
总结:等离子抛光机以其非接触、高精度、环保的特性,成为制造业追求表面光洁度、微观几何形状和功能性的工艺。它不仅是美化表面的工具,更是提升产品性能、可靠性和附加值的关键技术,在、精密工程、电子、汽车等高附加值产业中扮演着不可或缺的角色。


等离子抛光机是一种利用低温等离子体实现材料表面精密加工的设备,其结构由真空腔体、电极系统、气体供给系统、电源与控制系统、冷却系统五大部分构成。
设备主体为密封真空腔体,由不锈钢或铝合金制成,配备真空泵组维持10?2-10?3Pa的工作环境。腔体内置平行板式或射频线圈式电极系统,其中射频电源(13.56MHz)或微波电源(2.45GHz)通过阻抗匹配器向电极输出高频电能。气体供给系统通过质量流量计控制气、氧气或混合气体的输入比例,气体在强电场作用下电离形成等离子体。温度敏感的工艺需配备水冷或液氮冷却系统,确保腔体温度稳定在50-200℃区间。
工作原理遵循物理-化学协同抛光机制:在真空环境下,工作气体经高频电场电离产生包含电子、离子、活性基团的等离子体。高能粒子(电子温度可达2-5eV)轰击工件表面,通过动量传递使表层原子脱离(物理溅射);同时活性氧自由基与金属发生氧化反应,生成易挥发的金属氧化物(化学刻蚀)。这种原子级去除方式能消除0.1-1μm级的表面凸起,配合工件的三维旋转机构,等离子电浆抛光机,可实现复杂曲面的亚纳米级粗糙度加工。工艺参数需调控,气体压强(10-100Pa)、功率密度(0.5-5W/cm2)、处理时间(5-60分钟)共同决定终抛光效果。
该技术突破了传统机械抛光局限,特别适用于航空航天精密部件、和微电子元件的超精密加工,材料去除率可达0.1-5μm/h,表面粗糙度可优化至Ra<5nm,同时避免机械应力损伤,成为硬脆材料和微结构器件表面处理的工艺。


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