





微光显微镜侦测得到亮点之情况:会产生亮点的缺陷 - 漏电结(Junction Leakage); 接触毛刺(Contact spiking); (热电子效应)Hot electr;闩锁效应( Latch-Up);氧化层漏电( Gate oxide defects / Leakage(F-N current));多晶硅晶须(Poly-silicon filaments); 衬底损伤(Substrate damage); (物理损伤)Mechanical damage等。原来就会有的亮点 - Saturated/ Active bipolar transistors; -Saturated MOS/Dynamic CMOS; Forward biased diodes/Reverse;biased diodes(break down) 等。

超景深显微镜工作距离长,清晰范围大,附件齐全操作方便。可广泛应用于卫生,农林地质,电子精密机械等行业和部门,特别适合于LED,PCB检验,冲压电镀检验,电子元件检验。超景深显微镜观察物体时能产生正立的三维空间像,浙江精细研磨,立体感强,成像清晰和宽阔,具有较长的工作距离是适用范围非常广泛的常规显微镜。欢迎来电咨询!

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