等离子电浆抛光机原理
等离子电浆抛光（PlasmaElectrolyticPolishing,PEP）是一种利用低压气体放电产生的等离子体（电浆）对金属工件表面进行高精度、非接触式光整处理的技术。其原理在于创造并控制一个高度活跃的等离子体环境，实现原子级的材料去除。
设备工作时，工件作为阳极置于真空腔室中。腔室抽真空后充入特定工艺气体（如气、氢气或混合气）。在高频电场（或直流叠加脉冲）作用下，气体分子被电离，形成包含大量自由电子、离子、激发态原子/分子的等离子体“电浆”。这些高能粒子在电场驱动下高速轰击工件表面，其能量足以打断金属原子间的化学键。
表面微观凸起处因电场集中而优先受到活性粒子的轰击和化学反应（如与氢气反应形成挥发性氢化物）。此过程实现了选择性、均匀的原子级材料去除（蚀刻），而非机械切削。同时，等离子体中的活性成分还能有效清除表面吸附杂质和微小氧化层。
整个过程在较低温度（通常远低于金属熔点）和控制下进行，避免了热变形和机械应力，终获得超光滑（可达Ra<0.01μm）、无损伤、高洁净度的镜面效果，尤其擅长处理复杂几何形状和微细结构工件。其高效、环保、无耗材的特性，使其在精密医疗器械、航空航天、半导体模具等领域展现出显著优势。
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原理总结：通过低压气体放电产生高能等离子体（电浆），利用其中活性粒子对金属表面凸起处进行选择性、原子级的蚀刻与化学活化去除，实现超精密、无应力的抛光效果。
铜及铜合金
常见类型：纯铜（紫铜）、黄铜（Cu-Zn 合金）、磷青铜（Cu-Sn-P 合金）。
适配原因：铜材质导电性优异，易与等离子体产生稳定的电化学反应，抛光后能快速呈现高光泽度，且对铜的延展性影响，避免机械抛光导致的变形。
典型应用：电子接插件（铜针、端子）、五金饰品（黄铜手镯）、电气配件（铜排、触点）。
铝及铝合金
常见型号：6061、7075、5052 等工业铝合金，以及纯铝（1060）。
适配原因：铝合金表面易形成氧化层，等离子抛光可选择性去除氧化层中的杂质与微观凸起，同时生成均匀的新氧化膜，解决传统机械抛光 “起粉”“划痕残留” 问题。
典型应用：消费电子外壳（手机中框、笔记本电脑底壳）、航空航天零部件（轻量化结构件）、汽车装饰件（轮毂亮面处理）。
金属等离子抛光机
全自动等离子抛光机的应用领域
器械行业：如钛骨钉、不锈钢手术器械等，可提高表面光洁度，确保生物相容性。
航空航天行业：用于钛合金、铝合金等零部件的抛光，提升零件的性能和耐腐蚀性。
电子数码行业：手机中框、摄像头模组金属支架、电脑铝合金外壳等，可实现高精度抛光，提升产品外观质量。
五金饰品行业：不锈钢、铜质的项链、手镯、耳环等，能有效去除毛刺，提升饰品的光泽度和质感。
汽车行业：不锈钢排气管饰件、铜质线束接头等，可提高零件的美观度和性能。
金属等离子抛光机