DI直接成像曝光机
1、技术优势：
所有MIVA 位图影像系统使用的曝光程序，使用率半导体光源系统和高解析度的光学模组，此系统将高清晰度的影像转移至感光基材，直接成像技术，根据产品需求解析度可从3000DPI 到128000DPI，光学头在板材上方连续移动曝光，高解析度的线性电机和光学尺可实现的位置控制。
2、耗电低：
待机时只需消耗350W，曝光时消耗2.5KW，这其中一半的能量是由吸板真空泵所消耗，故机台本身十分节能。机台可使用单相电源。
DI直接成像曝光机
1、产品特点：
初始投入少：购机成本较低，节省传统菲林和曝光机成本，缩短生产时间，钧迪智能DI机，特别适用于周期要求短的样板制作。
使用维护成本低：光源寿命长达3 年，厂家提供两年免费保修，可保证极低的使用和维护成本。
待机时不消耗光源：采用“瞬间”曝光模式，无曝光时光源处于关闭状态，不消耗电能，同时提高光源使用寿命，
内置板面清洁系统：内置喷气式空气清洁系统可清洁板面曝光区域，降低对整体环境的要求；特有的DI 多次曝光系统可有效的防止空气中尘埃粒子阻挡光束产生阴影而导致图形品质的降低。
LDI机
LDI曝光速度的瓶颈因素包括：数据的储存与传送、镭射能量、切换速度、多边型的制作速度、光阻的感光度、镭射头移动速度、电路板传送作业模式等。
以基本的影响因素而言，有三个独立的因子会影响曝光速率：
1、能量密度 2、数据调变的速度 3、机械机构速度
光阻必须要有一定量的能量送到表面才能产生适当的曝光，而高敏度的光阻需要的能量相对较低。因为总能量等于功率乘上时间，直接成像，高敏度的感光膜在同样的功率下所需的曝光时间就比较短。而曝光系统的功能输出，主要来自于系统的光源设计，所以这是能量与时间的关系与解析度无关。
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