镀铝膜具有优良的阻气性、阻湿性、遮光性和保香性，不但对氧气和水蒸汽有较强的阻隔性，而且几乎可以阻隔所有的紫外线、可见光和红外线，可以延长内容物的保存期和货架寿命，因此，对于食品、药品以及其它一些需要延长保存期的产品来说，采用镀铝薄膜作为包装是一种相当不错的选择，可以防止由于吸湿、透氧、光线照射等原因而使食品或者内容物发生腐烂、变质等现象。此外，镀铝膜还具有保香性，香气透过率小，pet高光膜，能够长久保持内容物的香气不散失。因此，镀铝膜不失为一种优良的阻隔性包装材料。
真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直接沉淀在基片上形成薄膜。离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶，使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面，形成所需要的薄膜。
真空蒸发镀膜常用的是电阻加热法，其优点是加热源的结构简单，造价低廉，操作方便；缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热，电子束的动能变成热能，使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源，但由于大功率激光器的造价很高，目前只能在少数研究性实验室中使用。
溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态，常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电；三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电；射频溅射是利用射频辉光放电；磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比，有许多优点。如任何物质均可以溅射，尤其是高熔点，pet高光膜价格，低蒸气压的元素和化合物；溅射膜与基板之间的附着性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重复性好等。缺点是设备比较复杂，需要高压装置。此外，将蒸发法与溅射法相结合，即为离子镀。这种方法的优点是得到的膜与基板间有极强的附着力，有较高的沉积速率，膜的密度高。
真空镀铝膜的生产工艺流程
真空镀铝膜的生产工艺流程为：基材放卷→抽真空→加热蒸发舟→送铝丝→蒸镀→冷却→测厚→展平→收卷；其真空镀铝方式有转移法和直接蒸镀法两种。
（1） 转移法是借助载体膜将金属铝层转移到基材表面而形成真空镀铝膜的一种工艺。转移法是在直接蒸镀法基础上发展起来的新工艺，它克服了直接蒸镀法对基材要求的局限性，尤其适合于在各种纸及纸板上进行镀铝，也可用于塑料薄膜的镀铝。
（2）直接蒸镀法是被镀基材直接通过真空镀膜机，将金属铝蒸镀在基材表面而形成真空镀铝膜的一种工艺。直接蒸镀法对基材的要求较高，尤其是表面要形成光亮的金属膜时，需要求基材具有较好的表面平滑度。如果纸张的表面较粗糙，pet高光膜印刷，则采用直接蒸镀法时，需要在镀铝前进行表面涂布。另，在蒸镀过程中要求基材的挥发物要少。直接蒸镀法主要适用于蒸镀塑料薄膜，也可用于纸张的蒸镀，但纸张的质量要求高，并对纸的定量有一定的限度；也就是说直接蒸镀法对基材的适用范围有较大的局限性。真空镀铝对被镀基材的要求：
（1）基材表面清洁光滑、平整、厚度均匀，即基材应具有一定的强度和表面平滑度；挺度和摩擦系数适当。
（2） 耐热性好，基材经得起蒸发源的热辐射和蒸发物的冷凝潜热，基材含水量低于0.1%。。
（3）薄膜基材产生的挥发性物质要少；表面润湿张力大于38dyn/cm。
（4）对镀铝层的粘接性良好；对于非极性材料，真空镀铝前应进行表面处理、以提高与镀层的粘接性。
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