




电离室的数目
脉冲的变化率取决于漂移速度。电子的漂移速度约比正离子大三个量级,矩阵电离室,这就决定了在t≤x0/v-时间内,脉冲前沿主要是电子脉冲的贡献。它构成脉冲的快成份,幅度与电离产生的地点有关。在x0/v-≤t -≤(d-x0)/v+时间内,主要是离子脉冲的贡献,这是脉冲的慢成分。但是输出的电压幅度只决定于原电离的总数目,与电离产生的地点无关。

不同类型的电离室构造
不同类型的电离室构造大致分为两种:一种是平板电离室,矩阵电离室多少钱,一种是圆柱型电离室。如下图所示:左侧为平板电离室,右侧为圆柱型电离室。电离室内电子和正离子的漂移,使得两电极上感生的电荷发生变化,从而形成电压或电流脉冲。这种脉冲始于离子对生成,终于离子对全部被收集。必须指出:不能以为脉冲是由电子和离子被收集到电极上才形成的,这是不符合实际的。

电离室测量方法
测量时需要在测量深度,距离测量用电离室3-4cm处放置参考电离室,矩阵电离室公司,用以修正测量电离室读数。
具体修正方法如下:
目前测量用剂量仪多为双(多)通道剂量仪(若使用的是单通道剂量仪,则可以同时使用两个单通道剂量仪进行测量,方法相同)。
一通道接测量电离室,第二通道接参考电离室。(假设电离室日常测量用偏压为+300V。)

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