




电子四氟化碳是目前半导体行业主要的等离子体蚀刻气体之一,在硅、二氧化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻,以及低温制冷、电子器件表面清洗等方面被广泛应用。而电子特气系统为它保驾护航,保证四氟化碳(CF4)的纯度和安全稳定使用。高纯四氟化碳是纯度在99.999%以上的四氟化碳产品,是一种无色无味气体。高纯四氟化碳不可燃烧,四氟化碳价格,在常温常压条件下化学性质稳定,在密闭容器中遇高热有危险,不溶于水,可溶于苯、等部分溶剂。四氟化碳作为制冷剂是一种无色不可燃气体,能够保障液体运输的安全性。在临床医学中,四氟化碳还是一种高浓度的醉剂。由以上看出,四氟化碳的应用范围广泛,在下游电子产业等带动下,行业快速发展。

四氟化碳的用途与作用 :
四氟化碳是可作为氟和自由基氟化碳的来源,用于各种晶片蚀刻工艺。四氟化碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳在通常环境下是相对惰性的,在不通风的地方会引起窒息。在射频等离子体环境中,氟自由基表现为典型的三氟化碳或二氟化碳的形式。高纯度的四氟化碳能很好的控制加工过程,昆明四氟化碳,使尺寸和形状得到更好的控制,这不同于其他的卤烃遇到空气或氧气时不利于各种特殊的控制(如半导体各项异性控制)。


预先称取5~10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉,置于镍盘中,使硅和碳化硅充分接触后,将镍盘放入蒙乃尔合金反应管中,向反应管内通入氟气,氟气先和单质硅反应。含镁大于2%的合金不能用。在高温,一些金属起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增长的次序由小到大地排列则如下:因科镍合金、奥氏体不锈钢、镍、钢、铝、铜、青铜、黄铜、银。反应放热后,氟开始和碳化硅进行反应,通入等体积的干燥氮气以稀释氟气,四氟化碳多少钱,使反应继续进行,生成气体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝,然后慢慢地气化。


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