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TFT-LCD open cell前段制程与半导体制程非常相似，主要分成四个步骤：
1.利用沉淀形成gate metal。首先在玻璃基板上涂布一层金属，然后涂上光阻胶，后通过暴光、显影、蚀刻和除胶而形成gate metal。涂布的金属材料主要成分为：钛（TI）、铝（AL）、钼（MO）和铬（CR）以及其混合物。
2.沉淀SI3N4（氮化硅）、a-SI（非晶硅）和N+a-si（N型硅）。
首先利用PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deition ) 技术分别涂布一层SI3N4、N+a-si和a-si，然后在N+a-si和a-si上涂布光阻胶，通过暴光、显影、蚀刻和除胶而形成所需形状。PECVD指的是等离子体增强化学气相沉积法，商业净水器显示模块改造，原理是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，显示模块，在基片上沉淀出所期望的薄膜。 SI3N4、N+a-si和a-si三种材料充当的角色分别为：gate端和液晶存储电容的电解质、N型半导体和P型半导体。
液晶显示器在完成了制屏工艺后，还需要绑定驱动电路等部件才能实现显示。将液晶屏、驱动电路、柔性线路板（FPC)、印刷电路板板(PCB)、背光源、结构件绑定组装在一起的工艺称为液晶显示器的模块工艺，又称为模组工艺。根据绑定IC方式的不同，液晶显示模块工艺又可以分为：COB工艺、TAB工艺、COG工艺和COF工艺。
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内聚是从功能角度来度量功能模块内的联系，一个好的内聚功能模块应当恰好做一件事。它描述的是功能模块内的功能联系。
内聚有如下的种类，其内聚度由弱到强排列：
偶然内聚。一功能模块中的代码无法定义其不同功能的调用。但它使该功能模块能执行不同的功能，这种功能模块称为巧合强度功能模块。
逻辑内聚。这种功能模块把几种相关的功能组合在一起，每次被调用时，有传送给功能模块参数来确定该功能模块应完成那一种功能。
时间内聚。这种功能模块顺序完成一类相关功能，比如初始化功能模块，它顺序为变量置初值。
过程内聚。如果一个功能模块内的处理元素是相关的，而且必须以特定次序执行则称为过程内聚。
通信内聚。这种功能模块除了具有过程内聚的特点外，还有另外一种关系，则它的所有功能都通过使用公共数据而发*关系。
随着技术的日新月异，LCD技术也在不断发展进步。近些年各大LCD显示器生产商纷纷加大对LCD的研发费用，力求突破LCD的技术瓶颈，进一步加快LCD显示器的产业化进程、降低生产成本。如今，LCD显示器已经基本普及，价格对于普通消费者来说也可以接受，商业净水器显示模块厂家，即便如三星、华硕、LG等厂商生产的科技含量较高的中高*LCD显示器的价格也并非"高不可攀"。LCD技术的飞速发展，诸多弊端取得了长足的进步，LCD显示器已经逐渐开始取代CRT成为人们日常生活中Z主要的显示设备。
现在市面上有很多种原理的显示屏，各有优缺点，用户可以根据自己的实际需要进行选择。一般情况喜爱LCD显示屏在生产生活中使用比较广泛。现在的显示屏都是集成化程度较高的，都是由具体的使用模块组合而成。LCD显示模块是将玻璃和LCD驱动器进行集成的产品，能够给用户提供不同的驱动接口，供多种选择，用户可以按照具体的操作进行连接，从而进行正确的显示。
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在20世纪60年代发明液晶显示技术的初期，使用简单的X-Y电极寻址方式对液晶显示器像素进行寻址，商业净水器显示模块定做，显示图像存在大量的串扰，即一个像素会被邻近像素的变化所干扰；后来提出了在每一个X-Y电极的交叉点设计一个具有开关作用的TFT薄膜晶体管和一个电容，用电容来存储和保持施加在该像素液晶上的电压。
Z早都是使用CdSe作为 TFT的有源层，1980年前后开始研究使用非晶硅材料做有源层的TFT特性。相比纯非晶硅，氢化非晶硅（a-Si：H）能通过施主和受主掺杂来分别形成N型和P型半导体材料，氢能钝化在非晶硅散乱网格中的由位于禁带中的大量悬挂键引起的缺陷态，钝化过程使得非晶硅具有类似晶体硅的特性。
低压应用，低驱动电压，固体化使用安全性和可靠性提高;平板化，又轻薄，节省了大量原材料和使用空间;低功耗它的功耗约为CRT显示器的十分之一，反射式TFT-LCD甚至只有CRT的百分之一左右，节省了大量的能源;TFT-LCD产品还有规格型号尺寸系列化，品种多样，使用方便灵活、维修、更新、升级容易，使用寿命长等许多特点。显围覆盖了从1英寸至40英寸范围内的所有显示器的应用范围以及投影大平面，是全尺寸显示终端;显示质量从简单的单色字符图形到高分辨率，高彩色保真度，高亮度，高对比度，高响应速度的各种规格型号的视频显示器;显示方式有直视型，投影型，式，也有反射式。
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