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现如今我国市面上液晶显示背光源本身有更好的，色彩表现力强于其他材质并且展现出了更加丰富的色彩变化效果，而这种慢客户的液晶显示背光源可对显示色彩数量不足的液晶技术起到很好的弥补作用，这种的液晶显示背光源色彩还原度更好，同时也能够以稳定的显色性达成了更好的利用和可靠的安装，让客户在使用这种液晶显示背光源时获得稳定如一的显示品质。
超大尺度的背光模组，侧光式构造现已无法在分量、消费电力及亮度上占有优势，因此不含导光板且光源放置于正下方的直下型构造便被开展出来。光源由自发性光源(例如灯管、LED等)射出藉由反射板反射后，向上经扩散板均匀涣散后于正面射出，因安顿空间变大，灯管可依TFT面板大小运用 2多之灯管，但一起也增加了模组的厚度、分量、耗电量、其长处为高辉度、良好的出光视角、光运用、构造简易化等，因此适用于对可携性及空间请求较不挑剔的LCD 显示器与LCD TV ，其高消费电力(运用冷阴极管)，均一性欠安及形成LCD发热等疑问仍需请求改进
跟着印象请求的尺度增加，LCD也朝更大尺度的方向开展，这类超大型的LCD被拿来当作监视器及璧挂式电视，显示屏，不只请求大画面、高亮度及轻量化，在电器上亦请求高功率下的低热效应，开展的中空型构造的背光模组，运用热阴极管作为发光源。此构造以空气作为光源传递的前言，光源向下被棱镜片与反射板对方向调整及反射后，一有些向上穿过导光板并出射于外表，另一有些因全反射再度进入中空腔直到经折反射作用后穿过导光板出射，而向上的光源或直接进入导光板出射，或经一连串折射、反射作用再出射：导光板的形状为楔型构造，目的在求均一化的作用。
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TFT-LCD open cell前段制程与半导体制程非常相似，主要分成四个步骤：
1.利用沉淀形成gate metal。首先在玻璃基板上涂布一层金属，然后涂上光阻胶，后通过暴光、显影、蚀刻和除胶而形成gate metal。涂布的金属材料主要成分为：钛（TI）、铝（AL）、钼（MO）和铬（CR）以及其混合物。
2.沉淀SI3N4（氮化硅）、a-SI（非晶硅）和N+a-si（N型硅）。
首先利用PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deition ) 技术分别涂布一层SI3N4、N+a-si和a-si，然后在N+a-si和a-si上涂布光阻胶，通过暴光、显影、蚀刻和除胶而形成所需形状。PECVD指的是等离子体增强化学气相沉积法，原理是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，工控设备显示屏找哪里，在基片上沉淀出所期望的薄膜。 SI3N4、N+a-si和a-si三种材料充当的角色分别为：gate端和液晶存储电容的电解质、N型半导体和P型半导体。
液晶显示器在完成了制屏工艺后，还需要绑定驱动电路等部件才能实现显示。将液晶屏、驱动电路、柔性线路板（FPC)、印刷电路板板(PCB)、背光源、结构件绑定组装在一起的工艺称为液晶显示器的模块工艺，又称为模组工艺。根据绑定IC方式的不同，液晶显示模块工艺又可以分为：COB工艺、TAB工艺、COG工艺和COF工艺。
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常见液晶显示模块分类与选型要点
一、按显示内容
段式（数显）LCM：由若干固定段（如7段数码、图标）组成，典型用于水/电/燃气表、温控器、万用表等；优点是接口简单、功耗低、成本低，缺点是内容固定、灵活性差。
字符型LCM：内置字符发生器（如5×8、5×11点阵），可直接显示ASCII字符；常见规格有8/16/20/24/32/40位与1/2/4行组合，适合英文/数字信息界面。
图形点阵LCM：像素级控制，工控设备显示屏OEM定制，可显示图形、汉字、简单动画；常见有两类——①行/列驱动型（需外接控制器）；②内藏控制器型（如带T6963C等控制器，直接受控、占用主机资源少）。
综合型：兼具字符与图形能力，并支持硬件初始值设置（如占空比、传输字节数、字体选择等），适合图文并茂界面。
二、按显示原理（液晶材料与模式）
TN（扭曲向列）：成本低、功耗低，但视角窄、对比度低，多用于低路数驱动的简单显示。
STN（超扭曲向列）：视角更宽、对比度较高，适合**≤240路驱动，通常为单色**。
FSTN（薄膜补偿STN）：在STN基础上加薄膜补偿，改善对比度与可读性，常用于小尺寸工业/仪器面板。
TFT（薄膜晶体管）：主动矩阵，支持彩色、宽视角、高分辨率，但驱动复杂、需背光源、功耗较高。
VA（垂直取向）：对比度高、黑位深，常见于中显示；按工艺细分还可见HTN等
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