江苏迪盛微电子(图)-激光曝光机-宁波直接成像

曝光

曝光是指将涂有感光层的PS版置于晒版机工作台上，放好底片，通过曝光 获得一种潜在或可见图像的过程。曝光是一切光化学成像方法的基本过程与主要特征。曝光，曝光模式即计算机采用自然光源的模式，通常分为多种，友迪激光科技，手动曝光、AE锁等模式。照片的好坏与曝光有关，也就是说应该通多少的光线使CCD能够得到清晰的图像。曝光量由通光时间（快门速度决定），通光面积（光圈大小）决定。

激光直接成像的优点

　质量的改善具有以下优点;

1)消除了胶片和印制缺陷;

2) 在激光成像系统中，消除或减少了使用的受控环境中温度和湿度对产品的影响。除了节省费用和质量改进之外，激光直接成像还有许多技术优势，详述如下:

1)分辨率:由于激光光点直径小，所以激光直接成像系统改进了分辨率，很容易就可以达到50μm 的性能。随着方法的优化，在40μm 的抗蚀剂中生产35μm 的精细线已成为可能。

将来随着激光直接成像系统进一步改进，宁波直接成像，可能会实现25μm 的精细线和间距。

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线路板曝光机：用紫外线(UV)的能量，使干膜或印墨中的光敏物质进行光化学反应，激光直接成像，以达到选择性局部架桥硬化的效果，完成影像转移的目的称为曝光。将棕片(重氮片)上的图曝光到涂了感光物或是贴了感光干膜的线路板硬板PCB或软板FPC上。

曝光机理：通过UV光照射，使干膜感光剂中的非聚合状态有机分子桥接成聚合体。

光源：散射光、准平行光、平行光、激光。

设备：手动对位曝光机，半自动对位曝光机，激光曝光机，自动曝光机，LDI曝光机，DI曝光机。

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