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光刻形成的ITO有3个作用：
1）TFT处ITO，用作像素电极，与彩膜基板上的共用电极一起形成液晶像素的上下电极，控制液晶分子的旋转实现显示。
2）是存储电容上的ITO为存储电容的另一个电极，与次光刻的金属电极一起形成了存储电容的上下电极，两电极之间的介质层为绝缘层和钝化层。
3）外引线处的ITO为栅线和信号线金属的保护层，为防止金属电极直接暴露在大气下氧化，在外引线暴露金属电极的部分覆盖上ITO起到保护的作用。
下层TFT玻璃压合前处理。首先使用离子水洗净前段的TFT 玻璃，然后在TFT玻璃表面上涂布一层有机高分子配向膜，再通过辗压形成所谓的PI配向膜，其主要作用是为液晶分子制作一条的、有固定角度的通道来控制其在电压作用下的旋转方向和角度。然后在TFT玻璃上涂布长方形的密封胶，以利于TFT玻璃与彩色滤光片的粘合以及防止液晶外漏，而这个长方形将会是该open cell的可视区，Z后在胶框内注入液晶。
上层彩色滤光片压合前处理。首先，在彩色滤光片基板上涂布有机高分子材料，再通过辗压形成配向膜。然后在彩色滤光片中喷洒spacer，以保证彩色滤光片与TFT基板的空隙。
将TFT玻璃基板和彩色滤光片进行压合，并在压合处边框部分涂上导电胶，以保证外部电子能进入液晶层。压合后由上向下的顺序为：彩色滤光片、配向膜、液晶、配向膜和TFT玻璃。
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TFT-LCD液晶显示面板是否需要涂布导电银浆，和面板本身的触控方式和视角显示模式都存在一定的关系。
我们常见的主流触控方式有3种，分别为：On-cell、TP和Full-incell（也叫TDDI，即全内嵌式触控技术）。当然这里面还有Hybrid-incell（混合内嵌式触控技术）、OGS等。
TFT液晶显示屏的响应时间短也是其在工业应用中的一大优势。在一些需要快速更新画面信息的工业场景中如工业监控系统中的视频监控画面切换、高速运动物体的图像与显示等，短响应时间能够有效避免画面拖影和模糊现象的出现，确保图像的实时性与清晰度。例如，在交通监控领域，高速行驶的车辆需要被清晰准确地记录与显示，TFT液晶显示屏的快速响应特性可以让监控画面实时跟上车辆的运动轨迹，为交通管理部门提供及时、可靠的交通状况信息，有助于快速处理交通事故、疏导交通拥堵，维护城市交通秩序。
TFT液晶显示屏在分辨率方面，不断朝着更高的方向发展，从传统的高清(HD)逐步迈向超高清(UHD)甚至更高分辨率，为工业领域带来更为清晰、细腻的图像显示效果;在显示技术上，工控设备控制显示模块批发，新型的 TFT 液晶显示屏采用了诸如点技术、IPS(平面转换)技术等，进一步提升了色彩表现、视角范围以及对比度等性能指标，满足了工业领域对显示日益增长的需求。
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成膜
顾名思义，成膜就是通过物理或化学的手段在玻璃基板的表面形成一层均匀的覆盖层。在TFT 阵列制作过程中，我们会用到磁控溅射（Sputter，或称物理气相沉积PVD）和等离子体增强型化学气相沉积（PECVD）
磁控溅射（Sputter）
溅射是在真空条件下，用 He 气作为工作气体。自由电子在直流 DC 电场的作用下加速获得能量，高能电子碰撞 He 原子，通讯设备控制显示模块哪家好，产生等离子体。He 离子在DC 电场的作用下，加速获得能量，轰击在靶材上，控制显示模块，将靶材金属或化合物原子溅射出来，沉积在附近的玻璃基板上，Z后形成膜。
TFT 沟道刻蚀主要是刻掉非晶硅表面的一层N 型参杂的接触层。这一层具有改善接触电阻的作用。但这一层在沟道的部分必须完全刻蚀干净，否则沟道短路或漏电流偏大。沟道是否刻蚀干净，用光学的办法不能检测，因为 N 型参杂层是透明的。所以在沟道刻蚀后插入开路/短路（O/S）电测。
开路/短路电测的原理很简单：将两个探针放在电极的两端，检测电流以判断电极是否开路；将两个探针放在相邻的两个电极上，检测电流以判断这两个电极间是否短路。
TFT液晶屏的不足与改进方向
尽管TFT液晶屏在显示领域应用广泛，但它仍有一些限制:
可视角度有限:从侧面观看时，亮度和色彩会有衰减
能耗依赖背光:与自发光的OLED相比，功耗更高。
厚度限制:受制于背光模块，难以做到超薄极限。
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