四氟化碳公司-四氟化碳-安徽谱纯|货源充足(查看)

四氟化碳物理性质 :

   熔点-183.6℃，四氟化碳，

   分子式是CF4，

　　沸点-128.1℃，

　　液体密度(-130℃)1.613g/cm3，高纯四氟化碳，

　　液体折光率(-173℃)1.515，

　　固体转变点72.2K，

　　临界温度-45.67℃，

　　临界压力3.73MPa，

   蒸气压（-150.7℃）13.33kPa

  介电常数（25℃，0.5MPa）1.0006

　　临界密度：7.1dm3/mol

　　标准摩尔自由能：-929.84 kJ/mol

　　标准摩尔生成自由能：-887.41 kJ/mol

   危险性类别：第2.2类不燃气体

 在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。因为导致臭氧层破坏的是氟氯烃中的氯原子，它被紫外线辐射击中时会分离。碳-氟键比较强，因此分离的可能性比较低。反应放热后，氟开始和碳化硅进行反应，通入等体积的干燥氮气以稀释氟气，使反应继续进行，生成气体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝，然后慢慢地气化。

由碳与氟反应，或一氧1化碳与氟反应，或碳化硅与氟反应，四氟化碳多少钱，或氟石与石油焦在电炉里反应，或二氟二氯甲1烷与氟化1氢反应，或四氯化1碳与氟化银反应，或四氯1化碳与氟化1氢反应，都能生成四氟化1碳。吸入四氟1化碳的后果与浓度有关，包括头1痛、恶心、头昏眼花及心1血管系统的破坏(主要是心脏)。长时间接触会导致严重的心脏破坏。对于硅和二氧化硅体系，采用CF4-O2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。