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在彩色滤光片（ CF ）基板上形成彩色滤光图案的工艺
彩色滤光片着色部分的形成方法有染料法、颜料分散法、印刷法、电解沉积法、喷墨法。目前以颜料分散法为主。
颜料分散法的是将颗粒均匀的微细颜料（平均粒径小于 0.1 μ m ） (R 、 G 、 B 三色 ) 分散在透明感光树脂中。然后将它们依次用涂敷、曝光、显影工艺方法，依次形成 R. G. B 三色*案。在制造中使用光蚀刻技术，所用装置主要是涂敷、曝光、显影装置。
为了防止漏光，在 RGB 三色交界处一般都要加黑矩阵（ BM ）。以往多用溅射法形成单层金属铬膜，现在也有改用金属铬和氧化铬复合型的 BM 膜或树脂混合碳的树脂型 BM 。
此外，通讯设备显示模块工厂，还需要在 BM 上制做一层保护膜及形成 IT0 电极 ， 由于带有彩色滤光片的基板是作为液晶屏的前基板与带有 TFT 的后基板一起构成液晶盒。所以必须关注好定位问题，咖啡机显示模块批发，使彩色滤光片的各单元与 TFT 基板各像素相对应。
液晶盒的制备工艺
在上下基板表面分别涂敷聚酰亚*膜并通过摩擦工艺，形成可诱导分子按要求排列的取向膜。之后在 TFT 阵列基板周边布好密封胶材料，并在基板上喷洒衬垫。同时在 CF 基板的透明电极末端涂布银浆。然后将两块基板对位粘接，使 CF 图案与 TFT 像素图案一一对正，再经热处理使密封材料固化。在印刷密封材料时，需留下*入口，以便抽真空灌注液晶。
近年来 ，通讯设备显示模块找哪家定制， 随着技术进步和基板尺寸的不断加大 ， 在盒的制做工艺上也有很大的改进 ，家电行业显示屏控制模块定制， 比较有代表性的是灌晶方式的改变 ， 从原来的成盒后灌注改为 ODF 法 ， 即灌晶与成盒同步进行。另外 . 垫衬方式也不再采用传统的喷洒法 ， 而是直接在阵列上用光刻法制作。
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TFT 屏的功耗主要由逻辑电路与背光系统两部分构成，通过调节背光亮度，可在保证显示效果的同时降低整体功耗。
彩色滤光片由 RGB 三像素组成，光线穿过不同颜色的滤光单元后，混合形成人眼可识别的丰富色彩。
存储电容在 TFT 像素驱动中起到关键作用，能够维持像素电极的电压稳定，避免画面出现闪烁或失真。
消费级 TFT 模块主打高清高刷特性，适配手机、平板等设备，工业级模块则更注重长期不间断运行的稳定性。
日常维护 TFT 屏需避免尖锐物体划伤表面，清洁时使用柔软无尘布搭配清洁剂，防止液体渗入模组内部。
户外应用的 TFT 模块需选择亮度 500cd/m2 以上的规格，配合抗眩光面板处理，可减少阳光反射对观看的影响。
偏光片是 TFT 屏成像的部件之一，上下两层偏光片的偏振方向相互垂直，液晶分子偏转角度决定光线透过量。
TFT 液晶模块的视角分为水平视角与垂直视角，IPS 技术可实现 178° 全视角显示，不同角度观看色彩无偏差。
驱动 IC 通过柔性电路板（FPC）与 TFT 阵列基板连接，肇庆显示模块，负责将输入的图像信号转化为驱动像素的电信号。
电子纸与 TFT 屏的成像原理截然不同，TFT 屏依赖背光与液晶调制发光，电子纸则通过电泳技术实现类纸显示。
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STN LCD比TN LCD的视角更宽，而且除笔段型和字符型的显示以外，也可以做点阵型。STN LCD搭配半透或者反射的偏光片时，可以不加背光直接显示，降低成品的功耗。而且LCD还可以嵌入简单的触控功能，将显示与触控功能二合为一，是物理按键面板的上佳替代方案。
现已实现产业化的tft类型包括：非晶硅tft（a-si tft）、多晶硅tft（p-si tft）、单晶硅tft（c-si tft）几种。目前使用Z多的仍是a-si tft。a-si tft的制造工艺是先在硼硅玻璃基板上溅射栅极材料膜，经掩膜曝光、显影、干法蚀刻后形成栅极布线图案。
tft阵列工艺是tft-lcd制造工艺的关键，也是设备投资Z多的部分。整个工艺要求在很高的净化条件（例如10级）下进行。
一般掩膜曝光用步进曝光机。第二步是用pecvd法进行连续成膜，形成sinx膜、非掺杂a-si膜，掺磷n+a-si膜。然后再进行掩膜曝光及干法蚀刻形成tft部分的a-si图案。第三步是用溅射成膜法形成透明电极（ito膜），再经掩膜曝光及湿法蚀刻形成显示电极图案。第四步栅部绝缘膜的接触孔图案形成则是使用掩膜曝光及干法蚀刻法。第五步是将al等进行溅射成膜，用掩膜曝光、蚀刻形成tft的源极、漏极以及信号线图案。Z后用pecvd法形成保护绝缘膜，再用掩膜曝光及干法蚀刻进行绝缘膜的蚀刻成形（该保护膜用于对栅极以及信号线电部和显示电极的保护）。至此，整个工艺流程完成。
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