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广州鑫平电子科技有限公司

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鑫平电子科技有限公司是一家专门研发生产我们的显示屏控制模块,显示屏控制系统,智能控制显示模块主要是用在家电行业,仪器行业,工控设备,通讯设备,咖啡机,商业净水器,智能炒菜机,智能设备显示屏的厂家,公司通过了ISO9001:2008管理体系的认证,从市场、采购、研发、制造到**服务的整个工作流程,均严......

通讯设备显示屏OEM定制-显示屏- 鑫平电子支持送货(查看)

产品编号:100147123669                    更新时间:2026-01-20
价格: 来电议定
广州鑫平电子科技有限公司

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  • 主营业务:显示屏控制模块,显示屏控制系统,智能控制显示模块,显示屏
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产品详情





广州鑫平电子科技有限公司-显示屏家电行业显示屏控制模块定制

在彩色滤光片( CF )基板上形成彩色滤光图案的工艺

彩色滤光片着色部分的形成方法有染料法、颜料分散法、印刷法、电解沉积法、喷墨法。目前以颜料分散法为主。

颜料分散法的是将颗粒均匀的微细颜料(平均粒径小于 0.1 μ m ) (R 、 G 、 B 三色 ) 分散在透明感光树脂中。然后将它们依次用涂敷、曝光、显影工艺方法,依次形成 R. G. B 三色*案。在制造中使用光蚀刻技术,所用装置主要是涂敷、曝光、显影装置。

为了防止漏光,在 RGB 三色交界处一般都要加黑矩阵( BM )。以往多用溅射法形成单层金属铬膜,现在也有改用金属铬和氧化铬复合型的 BM 膜或树脂混合碳的树脂型 BM 。

此外,还需要在 BM 上制做一层保护膜及形成 IT0 电极 , 由于带有彩色滤光片的基板是作为液晶屏的前基板与带有 TFT 的后基板一起构成液晶盒。所以必须关注好定位问题,使彩色滤光片的各单元与 TFT 基板各像素相对应。



液晶盒的制备工艺

在上下基板表面分别涂敷聚酰亚*膜并通过摩擦工艺,形成可诱导分子按要求排列的取向膜。之后在 TFT 阵列基板周边布好密封胶材料,显示屏,并在基板上喷洒衬垫。同时在 CF 基板的透明电极末端涂布银浆。然后将两块基板对位粘接,使 CF 图案与 TFT 像素图案一一对正,再经热处理使密封材料固化。在印刷密封材料时,需留下*入口,以便抽真空灌注液晶。



近年来 ,工控设备显示屏联系方式, 随着技术进步和基板尺寸的不断加大 , 在盒的制做工艺上也有很大的改进 ,家电行业显示屏控制模块定制, 比较有代表性的是灌晶方式的改变 ,通讯设备显示屏OEM定制, 从原来的成盒后灌注改为 ODF 法 , 即灌晶与成盒同步进行。另外 . 垫衬方式也不再采用传统的喷洒法 , 而是直接在阵列上用光刻法制作。

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工作温度:通常分为标准温度范围和宽温范围:

1、标准温度范围:0°C到50°℃,这类液晶屏一般适用于室内或温暖环境。

2、宽温液晶屏:-20°C到70°℃或-30°C到80℃℃,工控设备显示屏价格,这类液晶屏通常用于恶劣环境,如户外设备、工业设备等低温环境

存储温度:对于低温环境,存储温度一般是液晶屏能接受的温度范围,通常会比工作温度范围更广。例如,液晶屏的存储温度可能在-40°C到85°C之间,而其工作温度通常不会低于-20°℃。如何判断?

查看液晶屏的技术规格书,特别是“工作温度”和“存储温度”这两个数据。如果液晶屏的工作温度范围低于零度(通常为-20℃C或-30°C)),则说明它适合低温使用。



液晶材料的低温特性

1.液晶分子的低温响应

液晶分子在低温下的响应特性与液晶屏的整体性能息息相关。液晶屏中的液晶分子通常在较高温度下具有较好的流动性和对光线的调节能力,而在低温下,液晶分子的流动性会下降,导致显示效果出现问题。

1、低温影响:在零下温度下,液晶分子的流动性受到影响,导致屏幕响应变慢或出现“拖影”现象,严重时可能导致屏幕出现“黑屏”或显示失效。

2、低温液晶显示技术:一些液晶屏采用低温液晶材料(如“低温多晶硅TFT”)来提高低温下的显示性能。



如何判断?

查找液晶屏是否具有专门为低温设计的液晶材料。很多液晶屏会采用低温液晶配方或宽温液晶配方,确保低温下不会出现显示问题。

了解液晶屏的响应时间。低温下,响应时间通常会增加。如果设备需要快速反应(如工业操作屏、车载屏等),则低温下的液晶响应能力需要特别注意。

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面板产业主要是指用于电视、笔记本、台式电脑和手机等电子设备的触控显示面板产业。当今时代已经是信息的时代,信息显示技术在人们社会活动和日常生活中的作用日益剧增,人类信息的获取80%来自视觉,各种信息系统终端设备与人之间的交互都需要通过信息显示来实现。面板产业已经成为了光电产业的,在信息产业中仅次于微电子行业,成为了Z重要的产业之一。



显示面板产品主要有液晶面板(TFT)、等离子面板(PDP)和有机发光二极管面板(OLED)

源、漏电极(S/D)、数据电极和沟道(Channel)形成

具体包括:S/D 金属层溅射成膜,S/D 光刻,S/D 湿刻,沟道干刻等工艺制程。经过这些工艺,终在玻璃基板上形成TFT 的源、漏电极、沟道及数据线。到此,TFT 已制作完成。



保护绝缘层(Passivition)及过孔(Via)形成

具体包括:PECVD 成膜,光刻,过孔干刻等工艺制程(各工艺制程的具体介绍在随后的章节中给出)。经过这些工艺,终在玻璃基板上形成 TFT 沟道保护绝缘层及导通过孔。

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