真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直接沉淀在基片上形成薄膜。离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶，上海真空彩色镀铝膜，使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面，形成所需要的薄膜。
真空蒸发镀膜常用的是电阻加热法，其优点是加热源的结构简单，造价低廉，操作方便；缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热，电子束的动能变成热能，使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源，但由于大功率激光器的造价很高，目前只能在少数研究性实验室中使用。
溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态，常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，真空彩色镀铝膜直销，因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电；三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电；射频溅射是利用射频辉光放电；磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比，有许多优点。如任何物质均可以溅射，尤其是高熔点，低蒸气压的元素和化合物；溅射膜与基板之间的附着性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重复性好等。缺点是设备比较复杂，需要高压装置。此外，将蒸发法与溅射法相结合，即为离子镀。这种方法的优点是得到的膜与基板间有极强的附着力，有较高的沉积速率，膜的密度高。
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镀铝膜的特点及应用
镀铝膜复合产品具有塑料薄膜的特性;其次表面一层致密的“镀铝”有较好的阻隔效果;同时在外观上也比较鲜艳，从而起到美化产品的包装效果;另外它在一定程度上替代了铝箔复合包装
在软包装中使用镀铝薄膜主要有以下几方面的突出优点：
首先镀铝膜复合产品具有塑料薄膜的特性；其次表面一层致密的“镀铝”有较好的阻隔效果；同时在外观上也比较鲜艳，真空彩色镀铝膜电话，从而起到美化产品的包装效果；另外它在一定程度上替代了铝箔复合包装，从而降低了包装成本。
（1）镀铝膜具有极l佳的金属光泽和良好的反射性，给人一种富丽华贵的感觉，真空彩色镀铝膜出售，用它来包装商品可以起到美化商品、提高商品档次的作用。
（2）镀铝膜具有优良的阻气性、阻湿性、遮光性和保香性，不但对氧气和水蒸汽有较强的阻隔性，而且几乎可以阻隔所有的紫外线、可见光和红外线，可以延长内容物的保存期和货架寿命，因此，对于食品、药品以及其它一些需要延长保存期的产品来说，采用镀铝薄膜作为包装是一种相当不错的选择，可以防止由于吸湿、透氧、光线照射等原因而使食品或者内容物发生腐l败、变质等现象。此外，镀铝膜还具有保香性，香气透过率小，能够长久保持内容物的香气不散失。因此，镀铝膜不失为一种优良的阻隔性包装材料。
正是由于具有以上几方面的突出优点，使得镀铝膜的应用越来越广泛，已经成为了软包装行业内应用十分普遍的一种包装材料。镀铝膜的种类很多，目前应用多的镀铝膜主要是聚酯镀铝膜（VMPET）和CPP镀铝膜（VMCPP），聚酯镀铝膜（VMPET）一般用作复合包装的中间层，由于其外观漂亮，在高l档包装中应用多，如奶粉、茶叶等包装袋。CPP镀铝膜（VMCPP）一般用作复合包装的热封层，常用于普通的小食品（比如饼干）包装。
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