所以反映在电镜图像上，改变焦距的时候会出现两个严重的拉伸，拉伸方向可能因样品而不同，但是这两个拉伸方向一定正交。所以此时将焦距调节至两个拉伸明显状态的中间位置，基本固定焦距。然后在此焦距下，进行消像散线圈的调节，先调X或Y中的一个维度，待图像达到清楚后再调节另一个维度。
有关拉伸方向的判断并不困难，试样中的各种特征点都可以作为判断依据，比如孔洞或者颗粒，或者样品边缘，都可以轻易的进行判断。尤其在像散比较大时，不要焦距和像散的两个维度乱调一气，以免像散过大而完全无从判断。
电子束穿过样品时会携带有样品的信息，TEM的成像设备使用这些信息来成像。投射透镜将处于正确位置的电子波分布投射在观察系统上。观察到的图像强度，I，在假定成像设备质量很高的情况下，近似的与电子波函数的时间平均幅度成正比。若将从样品射出的电子波函数表示为Ψ，则不同的成像方法试图通过修改样品射出的电子束的波函数来得到与样品相关的信息。根据前面的等式，可以推出观察到的图像强度依赖于电子波的幅度，同时也依赖于电子波的相位。虽然在电子波幅度较低的时候相位的影响可以忽略不计，但是相位信息仍然非常重要。
聚光镜处在电子的下方，一般由2～3级组成，从上至下依次称为、第2聚光镜（以C1 和C2表示）。关于电磁透镜的结构和工作原理已经在上一节中介绍，电镜中设置聚光镜的用途是将电子发射出来的电子束流会聚成亮度均匀且照射范围可调的光斑，投射在下面的样品上。C1和C2的结构相似，但极靴形状和工作电流不同，所以形成的磁场强度和用也不相同。C1为强磁场透镜，C2为弱磁场透镜，各级聚光镜组合在一起使用，扫描电镜细胞焦亡技术服务，可以调节照明束斑的直径大小，从而改变了照明亮度的强弱，在电镜操纵面板上一般都设有对应的调节旋扭。
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